Photothermal GO films with in-situ etching-growth stabilization strategy for adjustable and patterned personal thermal management DOI

Yanmei Zhu,

Qi Shi, Xinyue Wang

и другие.

Journal of Alloys and Compounds, Год журнала: 2025, Номер 1022, С. 179868 - 179868

Опубликована: Март 18, 2025

Язык: Английский

Photothermal GO films with in-situ etching-growth stabilization strategy for adjustable and patterned personal thermal management DOI

Yanmei Zhu,

Qi Shi, Xinyue Wang

и другие.

Journal of Alloys and Compounds, Год журнала: 2025, Номер 1022, С. 179868 - 179868

Опубликована: Март 18, 2025

Язык: Английский

Процитировано

0