Computational Ab Initio Approaches for Area-Selective Atomic Layer Deposition: Methods, Status, and Perspectives DOI
Fabian Pieck, Ralf Tonner

Chemistry of Materials, Год журнала: 2025, Номер unknown

Опубликована: Апрель 4, 2025

Язык: Английский

Computational Ab Initio Approaches for Area-Selective Atomic Layer Deposition: Methods, Status, and Perspectives DOI
Fabian Pieck, Ralf Tonner

Chemistry of Materials, Год журнала: 2025, Номер unknown

Опубликована: Апрель 4, 2025

Язык: Английский

Процитировано

0