Опубликована: Янв. 1, 2024
Язык: Английский
Опубликована: Янв. 1, 2024
Язык: Английский
ACS Applied Electronic Materials, Год журнала: 2025, Номер unknown
Опубликована: Фев. 4, 2025
Язык: Английский
Процитировано
5ACS Photonics, Год журнала: 2025, Номер unknown
Опубликована: Апрель 5, 2025
Язык: Английский
Процитировано
0ACS Applied Electronic Materials, Год журнала: 2025, Номер unknown
Опубликована: Апрель 7, 2025
Язык: Английский
Процитировано
0Applied Physics Letters, Год журнала: 2025, Номер 126(14)
Опубликована: Апрель 1, 2025
In this study, the effects of doping with different contents rare-earth element yttrium (Y) on electrical performance indium zinc oxide (IZO) and bilayer IZO/IYZO thin-film transistors (TFTs) were investigated. Through a rational design, TFT exhibits best Vth 0.2 V μFE 32.6 cm2/V s. X-ray photoelectron spectroscopy band structure analysis demonstrated that, in TFT, 6-nm highly conductive ultrathin IZO provided free electrons electron transfer from layer to IYZO formation bending, thus increased carrier mobility devices. addition, 20-nm-thick controlled Ne by forming potential barrier (0.38 eV), thereby increasing stability. Moreover, experimental characterization revealed that Y can reduce concentration, oxygen vacancies, surface defects, other trap densities Therefore, stability small shifts −0.9, 0.8, −1.1, 1.0 under negative gate bias stress, positive light illumination stress measurements. Overall, designed TFTs open effective pathways for achieving high-performance TFTs.
Язык: Английский
Процитировано
0ACS Applied Electronic Materials, Год журнала: 2025, Номер unknown
Опубликована: Май 21, 2025
Язык: Английский
Процитировано
0Materials Chemistry and Physics, Год журнала: 2025, Номер unknown, С. 131084 - 131084
Опубликована: Май 1, 2025
Язык: Английский
Процитировано
0Опубликована: Янв. 1, 2024
Язык: Английский
Процитировано
0