Cleaning mechanisms during post chemical mechanical polishing (CMP) using particle removal of surfactants via a citric acid-based solution DOI

Haoyu Du,

Renhao Liu,

Baimei Tan

и другие.

Colloids and Surfaces A Physicochemical and Engineering Aspects, Год журнала: 2024, Номер 697, С. 134428 - 134428

Опубликована: Май 31, 2024

Язык: Английский

Advanced polishing methods for atomic-scale surfaces: A review DOI

Zhun Luo,

Zhenyu Zhang, Feng Zhao

и другие.

Materials Today Sustainability, Год журнала: 2024, Номер 27, С. 100841 - 100841

Опубликована: Май 20, 2024

Язык: Английский

Процитировано

21
A review on the development of ceria for chemical mechanical polishing DOI
Jiahui Ma, Ning Xu, Jie Cheng

и другие.

Powder Technology, Год журнала: 2024, Номер 444, С. 119989 - 119989

Опубликована: Июнь 12, 2024

Язык: Английский

Процитировано

15
Novel ceria/graphene oxide composite abrasives for chemical mechanical polishing DOI
Chuandong Chen,

Yanying Cui,

Xiaopei Li

и другие.

Ceramics International, Год журнала: 2024, Номер 50(15), С. 26325 - 26333

Опубликована: Март 20, 2024

Язык: Английский

Процитировано

10
Photocatalytic assisted chemical mechanical polishing for silicon carbide using developed ceria coated diamond core-shell abrasives DOI
Xiaoxiao Zhu,

Yuziyu Gui,

Hao Fu

и другие.

Tribology International, Год журнала: 2024, Номер 197, С. 109827 - 109827

Опубликована: Май 26, 2024

Язык: Английский

Процитировано

10
Chemical mechanical polishing on cobalt-based barrier through dual functionality of salicylhydroxamic acid between the removal of copper and corrosion inhibition DOI

Yingqi Di,

Guofeng Pan,

Song Lv

и другие.

Electrochimica Acta, Год журнала: 2025, Номер 514, С. 145689 - 145689

Опубликована: Янв. 11, 2025

Язык: Английский

Процитировано

1
Characterizing the contact evolution through the combination of surface roughness parameters in chemical mechanical polishing using a polyurethane polishing pad DOI
Jongmin Jeong, Yeongil Shin,

Seunghun Jeong

и другие.

Wear, Год журнала: 2025, Номер unknown, С. 205802 - 205802

Опубликована: Янв. 1, 2025

Язык: Английский

Процитировано

1
Crystal structure transformation and lattice impurities migration of quartz during chlorine roasting DOI Creative Commons
W. Guo, Lu Hong, Zhenyue Zhang

и другие.

International Journal of Mining Science and Technology, Год журнала: 2024, Номер unknown

Опубликована: Ноя. 1, 2024

Язык: Английский

Процитировано

7
Preparation of SiO2@MnO2 composite abrasives and their performance in chemical-mechanical polishing of SiC substrates DOI

Ruixing Yang,

Hong Lei,

Jianhua Zhang

и другие.

Ceramics International, Год журнала: 2024, Номер 50(19), С. 34796 - 34805

Опубликована: Июнь 21, 2024

Язык: Английский

Процитировано

6
Recycling and Reuse of Rare Earth Polishing Powder Waste by a Simple Gravity Settling-Acid Leaching Process DOI

X. Zhu,

Xuesong Jiang,

Juxuan Ding

и другие.

Waste and Biomass Valorization, Год журнала: 2025, Номер unknown

Опубликована: Фев. 5, 2025

Язык: Английский

Процитировано

0
Atomic surface of fused silica with high material removal rate produced by novel chemical mechanical polishing using composite rare earth oxides DOI
Xiaohong Chen, Zhenyu Zhang, Leilei Chen

и другие.

Colloids and Surfaces A Physicochemical and Engineering Aspects, Год журнала: 2025, Номер unknown, С. 136420 - 136420

Опубликована: Фев. 1, 2025

Язык: Английский

Процитировано

0